德安源申请含磁混凝沉淀池污水处理系统及方法专利降低污水沉淀后底部的厚度
发布时间:2025-08-03 08:35:28

  金融界2025年8月1日消息,国家知识产权局信息显示,北京德安源环境科技发展有限公司申请一项名为“一种含磁混凝沉淀池的污水处理系统及方法”的专利,公开号CN120398353A,申请日期为2025年07月。

  专利摘要显示,本发明公开了一种含磁混凝沉淀池的污水处理系统及方法,涉及水污染控制与治理技术领域,包括:混凝池;上装架,设置于混凝池上,其上固定连接有搅拌电机,搅拌电机的输出轴通过联轴器固定连接有搅拌轴杆,搅拌轴杆的外侧壁设有搅拌叶片;均分进料机构。本发明公开的一种含磁混凝沉淀池的污水处理系统及方法具有通过输送泵将混凝池内部的固液均导入喷管中,其通过喷料孔喷向导流斜板的各个筛板处,通过筛板对固液混合物中较大的固体颗粒进行拦截,从而降低污水沉淀后底部的沉淀厚度,加速沉淀进度,同时,沉淀池本体底部的沉淀较少,上方的水体对其造成的整体压力增加,加速沉淀中的水体流出,提高固液分离率和降低水体损耗的效果。

  天眼查资料显示,北京德安源环境科技发展有限公司,成立于2005年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析,北京德安源环境科技发展有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目90次,财产线条,此外企业还拥有行政许可9个。

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